氧化處理工藝流程：除油（化學除油、電解除油）、除銹、氧化、涂保護膜（油脂或專用保護劑），工藝間應有清洗工序。

氧化過程中不需通電（但需加熱，一般150度左右）。

氧化后所得膜層為黑色（與材料成分有關）。具有輕微耐蝕必性，但對可提高消光能力。

物質失電子的作用叫氧化；相反的，得電子的作用叫還原。狹義的氧化反應指物質與氧化合；還原反應指物質失去氧的作用。氧化時氧化值升高；還原時氧化值降低。氧化、還原都指反應物（分子、離子或原子）。

氧化膜的生成機理 ：

在硫酸電解液中陽極氧化，作為陽極的鋁制品，在陽極化初始的短暫時間內，其表面受到均勻氧化，生成極薄而有非常致密的膜，由于硫酸溶液的作用，膜的最弱點（如晶界，雜質密集點，晶格缺陷或結構變形處）發生局部溶解，而出現大量孔隙。

即原生氧化中心，使基體金屬能與進入孔隙的電解液接觸，電流也因此得以繼續傳導，新生成的氧離子則用來氧化新的金屬，并以孔底為中心而展開，最后匯合，在舊膜與金屬之間形成一層新膜，使得局部溶解的舊膜如同得到“修補”似的。

隨著氧化時間的延長，膜的不斷溶解或修補，氧化反應得以向縱深發展，從而使制品表面生成又薄而致密的內層和厚而多孔的外層所組成的氧化膜。其內層（阻擋層、介電層、活性層）厚度至氧化結束基本都不變，位置卻不斷向深處推移；而外早一定的氧化時間內隨時間而增厚。